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SPMC的生产车间宽敞,布局合理,有1600平米加工制造车间、高精度的CNC加工中心、大尺寸雕刻机;200平米千级和万级的洁净室;配备洁净空气、氮气及去离子水;208伏和308伏的三相电压;配套了先进的进口焊接、剪裁、测试及装配工具。
 
 
硅密(常州)电子设备有限公司
常州新北区电子产业园新科路21号
 
工作时间
周一~周五8:30-17:30

电话:(0519) 85486173
传真:(0519) 85486203
  半 导 体


手动湿法RCA清洗设备

在IC制造过程中大约有40%的工艺都与清洗、蚀刻相关,这种设备的性能、可靠性、产品的质量会直接影响到硅电路是否存在污染物,晶圆表面的颗粒杂质。

该系列的清洗设备是可实现全自动、半自动、手动的控制,可用于

  • RCA clean
  • Standard clean 1 (SC 1清洗)
  • Standard clean 2 (SC 2清洗)
  • HF 最端清洗
  • 有效的光阻、残留物的去除及剥离
  • Si或者硅的化合物的刻蚀
  • 超声/兆声去除颗粒的工艺制程设备

等清洗、蚀刻工艺

设备可满足2’’-12’’晶圆的清洗、蚀刻,设备所用材料要能达到清洗工艺中的耐腐蚀及洁净度的要求, 可以达到“超洁净”的测定 所供设备和材料的设计、选购、制造、检验和测试均按照相关国家、半导体行业标准(SEMI-S2-93)执行,ISO9001质量管理体系进行规范和保证有机溶剂。

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